承印材料的选择和曝光的控制

　　一、版材选择

　　PS版的版基是铝。用于PS版的铝材，属于一般工业 级纯铝，厚度一般在0.3mm，含量为99.5%.主要杂质为 铁和硅，其次是铜、镁、锌、锰、钛等。铝板中少量杂质 的存在，能提高纯铝的抗拉强度和硬度，减小延伸率，降 低铝的导电性能。

　　二、感光剂的组成和涂布

　　PS版用感光剂由感光性物质、成膜性高分子树脂、染 料、有机溶剂组成。对于单独使用光敏剂配成感光剂涂布 的感光层，其耐碱性强，成膜性差，显影困难；在光敏剂 中加入适量的酚醛树脂。虽耐碱性较差，但成膜性和吸附 性得以提高，两者的配比为0.5:1或0.62:1，如果光敏 剂少，成膜树脂多，则耐碱性降低，网点易损失，残膜率 低，直接降低印版耐印力。

　　PS版感光剂的涂布需用专用涂布机，才能保证涂 布后的感光层厚薄均匀。涂布机一般分为单张版和卷 筒版两类。在涂布方式上，有铺流式、辊涂式、挤压 式和静电涂布式。我们不提倡使用离心式涂布。我国 常用辊涂式，为保证涂布质量，一般阴图型感光层固 体含量为 1g/m2左右。阳图型为 2-2.5g/m2，厚度一 般为（20±1.0）mg/dm2。当涂布产生横向条纹等故 障时应及时排除。

　　三、PS版的制版

　　PS版制版的关键是最大限度地再现胶片的网点和阶 调，在印版表面形成牢固的亲油基础和稳定的亲水基础。 否则，不仅浪费了时间，更严重的是降低了印版耐印大， 浪费版材。直接影响制版质量的一系列因素包括制版原 版.PS版的网点再现性，制版设备和条件。制版工艺和操 作，特别是曝光、显影条件等。

　　1.晒版原版

　　PS版的阳图或阴图原版，可用传统的照相制版、电 子分色及照排等方法制成。除了阶调再现曲线应有所调 整外，还必须注意原版的密度反差和网点光洁度。由于 原版的Y值过低，曝光、显影不足或减薄过度等原因。容 易形成密度低的软性网点或者是中间密度大，边缘密度 小的活性网点。这两类网点的晒版稳定性差，曝光、显 影稍有变化，就会使印版深浅不一，从而直接影响印版 耐印力。硬性网点的原版，由于密度高，网点光洁，曝 光和显影的宽容度都较大。所以质量稳定。因此，晒版 用原版字迹图案必须清晰且要密度大，反差大。以华光 牌YZ-600 11型胶片为例.原版最大密度应在4.0以上。 最小密度在0.05以下，反差系数在8.0以上，版面清洁 减少灰雾度和拼贴。

　　2.晒版光源

　　对于晒版光源。由于感光剂的感光是一个氧化还原反 应。只有感光剂充分吸收T足够的光能才能发生，并且它 的分解、交联、合的程度是和所需光线强度和光照时间 成正比的，因此，晒版光源的发射光谱与感光剂光敏曲线 的敏感区应尽量匹配。实验证明，阳图型感光刺的分光感 度在300nm-460nm以内，附图型在200nm-500nm以内。 考虑到晒版原版和晒版玻璃的影响。光谱设计在350nm-460nm区域内较适宜，因此，现在晒制PS版的较理想光 源为碘镓灯。

　　3.曝光量

　　在正常的制版过程中。曝光量是影响网点变化和版面 深浅的最主要因素。我们知道，晒版曝光量=照度×晒版 时间。由于常用的PS版阳图型属于光分解型。因此，当曝 光量超过临界光量值，即曝光过度时，网点就会缩小，细 笔划和小网点难以再现；当曝光量小于临界光量值，即曝光不足时。网点就会相应扩大变粗。使版面起脏，影响版 面深浅。因此，在晒版过程中，对于曝光量的控制。应采 用连续调发梯尺或是布鲁纳尔测试条进行监控，其作用就是在显影后检查曝光量是否合适。一般打样版控制在3-4级（密度为0.4-0.55），印刷版控制在4.5-5.5级（密度为0.625-0.775）晒白不吸墨。在晒制阳图版时，如能将0.5%的小点子和99.5%空心点子成对晒出来，这样的印版才算合格。

　　来源：我的耗材网